產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配...
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三靶磁控濺射鍍膜儀(直... 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配直流電源功率...
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三靶磁控濺射鍍膜儀(射... 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配源功率從50...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(直... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)典型的高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)可選配直流電源和射頻...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(射... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)高速低溫濺射實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)可選配功率從500W-1000W不等的...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀(直... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。
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單靶磁控濺射鍍膜儀（射... 單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）可選配500W-1...
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單靶磁控濺射鍍膜儀(直... 單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500...
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小型單靶磁控濺射鍍膜儀 小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可...
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真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真...
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可程控磁控濺射鍍膜儀 可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真...
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高真空磁控濺射鍍膜儀 高真空磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉(zhuǎn)臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量及電控系統(tǒng)等...
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單室磁控濺射鍍膜儀 單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組...
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CY-in-line磁... CY-in-line磁控濺射系統(tǒng)主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機(jī)構(gòu)、抽氣及真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝...
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雙靶高真空磁控等離子濺... 雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2"目標(biāo)源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于...
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3靶緊湊型磁控濺射鍍膜... 3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng)，設(shè)計(jì)用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊...
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非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺... 非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。非導(dǎo)電薄膜等離...
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大功率直流磁控濺射鍍膜... 大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。大功率直流...
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單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。...
